论坛首页>>刀具与数控加工>>涂层设备的三种同不种类的靶
注册|登录 |

   
共1页首页上一页1下一页尾页
fullanti
等级：初级会员
头衔： 管理员
星数：
帖数：669
精华：23
积分：1984
消息：
  查看资料
发布于：2021-04-22 10:56
字体大小：大中小 1#

涂层设备的三种同不种类的靶



一、圆柱形阴极弧靶

1.沉积速度快

2.靶的形状适合于沉积脆的/昂贵的材料，允许复杂的涂层结构

3.柱型弧LARC和CERC金属离子源复合多层膜沉积

A1.png



二、平面多弧靶

1.最小的变化

2.优越的均匀性

3.低的液滴密度

4.遮板保护

5.优越的沉积过渡层

A2.png



三、溅射靶

1.极端光滑

2.可以沉积范围很广的材料

3.非常适合于沉积特殊的材料或多弧不适合沉积的材料

A3.png

IP 属地：东莞
相关帖子
收藏 顶 0 踩 0
0
共1页首页上一页1下一页尾页

电  话：400-833-7898

Email：fullanti@fldtool.com

地  址：湖南邵阳/广东东莞/山西晋城/四川成都/江苏昆山/越南太原

APP下载

关注公众号

微信小程序

×
seo seo

消息内容

×
消息长度最多可添加100个汉字或者200个字母

回复内容

×

编辑回复内容

×