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    发布于：2021-04-22 10:56
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    涂层设备的三种同不种类的靶



    一、圆柱形阴极弧靶

    1.沉积速度快

    2.靶的形状适合于沉积脆的/昂贵的材料，允许复杂的涂层结构

    3.柱型弧LARC和CERC金属离子源复合多层膜沉积

    A1.png



    二、平面多弧靶

    1.最小的变化

    2.优越的均匀性

    3.低的液滴密度

    4.遮板保护

    5.优越的沉积过渡层

    A2.png



    三、溅射靶

    1.极端光滑

    2.可以沉积范围很广的材料

    3.非常适合于沉积特殊的材料或多弧不适合沉积的材料

    A3.png

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